导语

在真空应用领域，尤其是半导体制造工艺中，金属密封（Metal sealing ）MFC直接决定芯片制程良率与设备运行安全，但受限于高技术壁垒，该类产品长期依赖进口。电磁常开阀（Normally Open Solenoid Valve）作为流体控制领域的关键元件，凭借"断电保通"的特性使其成为安全关键系统中的首选解决方案。ACCU 北京精量科技ACU20FD系列质量流量控制器/流量计，以预热时间短，零漂小，可靠性高等特点，打破进口垄断，完美适配气体控制场景。

行业背景

在半导体制造的核心工艺中，气体流量的精准控制直接决定了芯片良率与可靠性。化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、刻蚀与清洗等环节，无一不依赖高性能质量流量控制器（MFC）。然而，当面对四氯化硅（SiCl₄）、四氯化锗（GeCl₄）、三氯氧磷（POCl₃）、三氯化硼（BCl₃）等具有腐蚀性或毒性，对控制器的密封性与气体兼容性要求严苛，一旦出现泄漏，不仅会破坏真空环境，还可能引发安全隐患。传统MFC往往暴露出三大痛点：

• 密封失效：腐蚀性气体穿透密封界面，导致剧毒泄漏，威胁人员与环境安全；

• 控制漂移：传感器及流道内壁被腐蚀，精度随运行时间显著下降；

• 低压差失效：在低入口压力或宽压差波动工况下，阀门无法稳定响应，控制失准。

更棘手的是，一旦发生意外断电，普通MFC阀门可能自动关闭，导致保护气体中断、腔室失去吹扫，昂贵的晶圆工件瞬间报废，甚至引发安全事故。如何在腐蚀性介质、宽压差波动和突发断电的多重挑战下，实现“不断气、不漏气、高精度”的控制？

解决方案

▲ ACU 20FD-LC 质量流量控制器（金属密封常开阀）

2、金属密封，杜绝气体泄漏

ACU20FD系列金属密封常开阀质量流量控制器，针对如四氯化硅（SiCl₄），四氯化锗（GeCl₄），三氯氧磷（POCl₃），三氯化硼（BCl₃）等强腐蚀性氯化物，采用了密封性极佳的不锈钢流道与金属密封结构，摒弃易被渗透腐蚀的常规高分子密封件。全金属硬密封设计将氦泄漏率严格控制在1×10-10Pa·m³/sec以下，达到半导体级超高密封标准，有效杜绝气体泄漏，既保障了真空环境的稳定性，又避免了特种气体泄漏带来的安全隐患。这不仅保障了人员与环境安全，也大幅降低了设备维护频率与停机成本。

3、高精度，稳定控制

ACU20FD系列基于毛细管传热温差量热法原理工作，流量测量不受介质温度与压力波动影响。该系列实测精度≤±0.5%FS，重复性≤±0.2%FS，控制比高达50:1。配合管状分流结构设计，实现了对极微小流量的精准把控，并具备不易堵塞、预热时间短、零漂小的特点，不受真空环境压力波动、气体热物理属性的干扰，从根本上保障了真空工况下流量控制的准确性与稳定性。

工况参数：

注：以上参数为本方案的定制化配置，ACCU可根据客户实际生产工况，提供不同量程、接口和通讯协议的解决方案。

应用范围

结语

气体质量流量控制器是工业精密制造的“隐形指挥官”，尤其是微小流量测控中，其重要性不言而喻。ACU20FD系列热式质量流量控制器/流量计凭借直接测量质量流量、无需温压补偿、小流量测控能力强等核心优势，结合常开阀“断电保通”与金属密封“零泄漏”的双重保障，为半导体、光伏、氢能、锂电池等高端领域提供了一套经得起极端工况考验的测控方案。